根据GB/T16292-1996(中国标准)规定，30万级半导体无尘车间要求每立方米大于等于0.5微米粉尘颗粒不超过1万个，每立方米粉尘颗粒不超过6万个。由此可见，30万级的清洁度要求相当低，与未净化的车间相差不大，因此逐渐被淘汰。如今，各行业的无尘车间不再使用30万级的清洁度，因为这个级别的无尘车间不能满足生产的需要，车间内的粉尘数量仍然会影响产品的质量。
对于半导体无尘车间，30万级无尘车间不能使用，这是因为部分半导体产品体积越来越小，自然清洁要求越来越高，所以30万级清洁水平不能满足产品生产，所以现在没有无尘车间使用清洁水平，即使环境要求不是特别高，也会选择10万级的清洁度，对环境清洁度要求高的产品需要使用更高级别的清洁度。
无论哪个行业在建设无尘车间时，都是根据生产产品技术的要求进行选择的。理论水平越高越好，但也要考虑成本性能等因素，尽量选择适合产品的清洁水平。随着社会的进步和技术的创新，一些原始标准不再满足需求，它们将逐渐被其他标准所取代。现在30万级被淘汰，未来可能是10万级。但对于专业的净化工程公司来说，需要跟上时代的步伐，不断提高施工技术，不断储备新的专业知识。
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